第三百一十五章 含金量 (第1/2页)

“光刻机突破确实有含金量，我在来之前和老张一起跑申海采访新芯的时候，顺便去了申海华科院光电所的徐至展院士。
　　
　　问了他对新芯的看法，无论是当着我们面，还是后来我私下找他学生采访，他们对新芯的光刻机技术都赞不绝口。”
　　
　　徐至展是院士，此时担任申海光学精密机械研究所的所长，他虽然不是从事光刻机领域研究，但是激光物理装置研究和光刻机多少沾点边。
　　
　　“徐院士说新芯把光刻技术推向了新的高度，是华国企业在这一领域的新突破。
　　
　　在新芯进入光刻机领域前，华国最先进的光刻机技术要属燕京那边的华国科学院光电所研发的光刻机。
　　
　　他们研发的是i线光刻机，光源波长在365nm，工艺精度最高也就0.35微米，而新芯的制程按照他们的说法已经进入了40nm，中间相差了至少两代技术差距。”
　　
　　因为要拍成纪录片，所以在来之前大家做了大量基础资料的查阅和相关专家的采访，他们很清楚新芯的技术突破意味着什么。
　　
　　意味着华国和国外的光刻机领域在八十年代被拉开的差距，在这一刻成功实现了逆转。
　　
　　193nm波长光源的光刻机又叫ArF，如果单纯看光源发展历史的话，光刻机一共经历了五代：436nm的g-line、365nm的i-line、248nm的KrF、193nm的ArF和13.5nm的EUV。
　　
　　尼康研发的157nm波长光源的干式光刻机因为不是主流，所以没有算在里面。
　　
　　如果没有新芯的话，此时华国最先进的光刻机应该是华国科学院光电所研发的URE-2025型i-line光刻机，比主流光刻机足足落后代。
　　
　　说完该男子又嘿嘿一笑，神情中露出一丝不可言状的意味：“我前两天不是去的申海吗？
　　
　　我有朋友在申海的光电所，他和我说，他们私下本来对新芯怨声载道，这次新芯利用浸润法实现了光刻机制程的反超，一下子他们就没话说了。”
　　
　　“啊？申海的光电所对新芯怨声载道？
　　
　　他们那毕业的研究生和博士不是因为新芯，出去待遇翻了三倍都不止么？
　　
　　他们有什么好怨恨新芯的？”
　　
　　“呵呵，我听我朋友说，十五攻坚行动里的光刻机项目本来是要分给申海光电所，甚至华电科都打算把他们的45所之前搞光刻机的团队全部迁到申海，和光电所合并，然后一起承担这个项目。
　　
　　因为汉芯事件，导致上面对申海的科研环境极其不信任，十五计划里整个申海高校和科研机构，只有复旦勉强捞到了一个项目，其他高校和科研机构啥都没捞到。
　　
　　光电所出去的研究生和博士待遇是翻了三倍，问题是对光电所的科研人员来说，他们待遇又没有翻翻，还失去了重大攻坚项目，身边有能力的同事都被新芯挖走了，剩下的要么是有职位的领导，甚至中层走的都不少。
　　
　　要么就是没啥本事，靠关系混进来的，不恨新芯才怪呢，新总不把汉芯的皮扒下来，他们也不会接不到十五的攻坚项目了。”
　　
　　“原来如此，汉芯事件在这上面还有后续，汉芯之后那两年，整个申海地区高校的分数线都往下降了个十分左右。”
　　
　　另外一位央视的记者倒是没有问，为什么新芯已经实现了40nm工艺制程的光刻机突破，华国的光刻机攻坚项目还会不会继续。
　　
　　作为央妈的记者，他在这方面有足够的敏锐性，别说新芯研发成功的是40nm工艺制程，就算新芯研发了10nm工艺制程的光刻机，华国方面主导的项目攻坚还是会继续。
　　
　　一是因为项目立项必须要把钱用完把项目给结了，除非非常特殊，不然不会中止，二是因为新芯的光刻机依然要依靠国外供应商，而且技术也不会免费授权给华国企业，华国有必要研发自己的光刻机技术。
　　
　　华国在做这个项目立项的时候，那时候新芯已经从尼康手里买了130nm光刻机技术，并且搞的还不错，因此华国方面认为，新芯能借助自己的生产线在130nm光刻机站稳脚跟，华国方面实现技术突破后同样可以借助华虹、华晶这帮国企站稳脚跟。
　　
　　因此有新芯这一案例在前，华国非但没有中止十五计划中的光刻机项目，反而加大了对这一项目的支持力度，直接放在燕京的华国科学院光电所负责这一项目的研发，由申海微电子负责配合。
　　
　　“林博士，您好，我是央*视记者陈晓夏，我们有几个问题想采访一下您，您可以畅所欲言。”陈晓夏是国际频道的记者，常年跑外勤，因此来到有明会展中心他倒是没有什么感觉，他连南极都跑过，这里只能说小意思。
　　
　　而这次团队里的小年轻来了之后，一阵阵惊呼，觉得东京建设的比华国的大城市要好得多，随便一个会展中心都修的如此恢弘雄伟，建筑面积足足有二十多万平方。
　　
　　林本坚对接受采访不意外，央妈的团队是和他们搭乘同一个航班来的东京，在来之前央妈那边就已经和新芯沟通好了。
　　
　　“好的，陈记者，你问吧。”林本坚很淡定，他刚刚做完介绍，还没有从前面介绍中的兴奋状态中脱离出来，对于和陈晓夏的沟通，他属于机械式反应。
　　
　　“林博士，第一个问题，您觉得新芯的技术突破意味着什么？对于光刻机领域，对于半导体领域来说？”
　　
　　“意味着困扰业内长达二十年的光源问题得以解决，从90年代开始，光源波长就从365nm降低到了193nm，但是业界一直无法实现突破。
　　
　　新芯这次实现了光源波长的突破，从40nm到20nm都将是一马平川，再无困难点阻碍。
　　
　　半导体行业依然会按照摩尔定律继续发展，一直到遇到新的瓶颈。”林本坚说得云淡风轻，心里却很得意。
　　
　　他在现场看到了之前IBM的老熟人，也是他的对手，IBM光源团队的负责人鲍里斯·利普金。
　　
　　之前在IBM的时候，他坚持深紫外光或者浸润法来突破193nm波长的限制，而鲍里斯坚持X光，林本坚后来被IBM“内部退休”和鲍里斯不无关系。
　　
　　

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